解读光刻机冷却系统及使用注意事项

在芯片制程领域光刻机成为主要的制程设备，再光刻机工作过程中，工艺温度的开工至显得尤为重要，辉卓制冷经过中科辉卓多年的科研应用，制造出高精度0.1度冷却系统，满足光刻制程的控温需求，

使用半导体制冷元件的冷水机，通常就叫“半导体冷水机”，用以表示没有使用机械制冷装置的制冷设备。

中国国产的光刻机最小制程能达到多少？期初我国28纳米技术较为成熟，随着科研的研究，28纳米以下机型逐渐成熟起来。。

封装光刻机在国内市场已占据不小的份额，这是国产光刻机取得的进步。然而在代表着光刻机技术水平的晶圆制造光刻机方面，上海微装可生产加工工艺制程的光刻机，这是国产光刻机最高水平，而ASML如今已量产7nm工艺制程EUV光刻机，两者差距不得不说非常大。

光刻机的最小分辨率、生产效率、良率均在不断发展。光刻机的最小分辨率由公示R=kλ/NA，其中R代表可分辨的最小尺寸，对于光刻技术来说R越小越好，k是工艺常数，λ是光刻机所用光源的波长。

NA代表物镜数值孔径，与光传播介质的折射率相关，折射率越大，NA越大。光刻机制程工艺水平的发展均遵循以上公式。此外光刻机的内部构造和工作模式也在发展，不断提升芯片的生产效率和良率。

注意事项：

进入机仓检查或维修必须切断电源，挂上警示牌并与中控，检修或检查时必须使用以下照明。

必须经常监视机器运转情况，如听任何不正常声音，应立即停机检查，查明原因并处理完故障后，方可重新起动。

正常运转中，应特别注意电机和转子的温度变化，保证充足的油润滑、水冷却，超过规定值立即停机检查。运行时不准打开观察孔，以防物料飞出伤人，每周应检查一次转子卡箍螺栓的松紧情况。

一、光刻机冷却系统冷水机的使用注意事项：

1）光刻机冷却系统冷水机组的正常开、停机须严格按照光刻机冷却系统冷水机厂家提供的操作说明书的步聚进行操作。

2）机组在运行过程中，应及时、正确地做好参数的记录工作，如出现报警停机，应及时通知相关人员对机组进行检查，如无法排除故障，可以直接与光刻机冷却系统冷水机厂家联系400-021-0663。

3）机组在运行过程中严禁将水流开关短接，以免冻坏水管。机房应有专门的工作人员负责，严禁闲杂人员进入机房，操作机组。

4）机房应配备相应的靠谱防护设备和维修检测工具，如压力表、温度计等，工具应存放在固定位置。

5）机组在停机后应切断主电源开关。在停机时期间，应该将机组全部遮盖，防止积灰，与机组无关的人员不得接触机器。

6）定期更换纯水，当光刻机冷却系统使用一个月以后，必须更换纯水系统，满足制冷需求。